Neue Technologie verspricht 24 Prozent mehr Rechenleistung

AMD und IBM haben nach eigenen Angaben ein neues Verfahren für die Implementierung von gestrecktem Silikon ("strained silicon") in positive und negative Transistoren entwickelt. Es nennt sich "Dual Stress Liner" und soll die Geschwindigkeit von Transistoren um bis zu 24 Prozent verbessern. Sowohl AMD als auch IBM wollen die neue Fertigungstechnologie ab der ersten Hälfte 2005 für die Herstellung von Opteron-, Athlon-64- und Power-Prozessoren nutzen.