Intel und IBM revolutionieren Chip-Herstellung

Die beiden Unternehmen haben gleichzeitig ähnliche Chipherstellungsverfahren vorgestellt. Sie machen sich so genanntes High-K-Material zu Nutze. Mit ihm lassen sich kleinere und schnellere Transistoren bauen. High-K-Material soll besser isolieren, als das bisher verwendete Siliziumdioxid. Somit können die Transistoren kleiner gebaut werden, ohne an Effizienz zu verlieren. Das neue Material soll das Mooresche Gesetz am Leben erhalten. Dieses besagt, dass sich die Anzahl Transistoren auf Prozessoren etwa alle zwei Jahre verdoppelt. Intel will erste Chips mit dem neuen Material bereits in der zweiten Hälfte 2007 auf den Markt bringen.